全(quán)自動晶圓缺(quē)陷檢(jiǎn)測係統
WI-6500AL

WI-6500AL全自動晶圓缺(quē)陷檢測係統由自(zì)動化上下料係統、視覺檢測係統(tǒng)、控製軟(ruǎn)件等組成,支持25片晶圓的自動缺陷檢測(cè)。該係統可檢測晶圓盒中晶圓數量和(hé)位置,快速定(dìng)位缺陷位置,提取缺(quē)陷圖(tú)像,判別缺陷類型,並將結果存儲在生產線係統數據(jù)庫中。本產品可用於inline或者後段環節,供操作人員和工程師快速分析產品整體工藝情(qíng)況。該係統相較於(yú)人工檢測優勢明顯,具備高檢測(cè)精(jīng)度、高檢測效率,高準確(què)率,減少誤判率和(hé)漏判率(lǜ);檢測結果穩定性(xìng)和重複性(xìng)好。


產品特點

〇    最小缺陷:0.5μm,支持明暗場觀察

〇    晶圓尺寸:2~12英寸可定製(可支持藍膜等)

〇    自動化上下料,每批可測試量:25pcs

〇    自動聚焦和分層聚焦圖像(xiàng)攝取

〇    機器視覺係統自動檢(jiǎn)測

〇    缺陷分析(xī)、生成(chéng)Map報告

產品應(yīng)用

該係(xì)統適用於Silicon、SiC、GaAs、GaN、InP等,有圖形與無圖(tú)形缺陷(xiàn)檢測,可檢測髒汙、波導斷裂、劃傷、顏色異常、針痕異常、矽裂、崩邊等等多種缺陷(xiàn)類型。

技術(shù)參數

視覺檢測(cè)係統(tǒng)

明暗場(chǎng)


DIC

成像(xiàng)類型

彩色(sè)/黑白

鏡頭倍數(shù)

1.25X/2.5X/5X/10X/20X/50X等

鏡(jìng)頭電動切換(huàn)

檢測(cè)缺陷

自動

缺陷類型

髒汙/波導斷裂/劃傷/顏色異常/針痕(hén)異常(cháng)/矽裂/崩邊等

缺陷分類

缺陷檢測失誤率

0.1%

最小檢測精度

0.5μm

深度學習模塊

氮氣(qì)吹掃功(gōng)能

Chuck平台

兼容晶圓(yuán)尺(chǐ)寸

2~12英寸可定製;支持藍膜(mó)、芯片吸附盒等多種形態

自動聚(jù)焦

XYZ和旋轉台

自動加載

物料裝載

支持裝載1~2個cassette

預校準

Wafer-ID識別

使用環境

潔淨等級(jí)

千級/萬級

環境溫度

25℃±3

環(huán)境濕度

55~65%RH

軟件

權限管理

區分工程師權(quán)限和操作員(yuán)權限(xiàn)

金樣製作

軟件提供引導界麵,方便操作人員快速創建對比金樣

開放接口

支持(chí)客戶自己編寫(xiě)圖像算法,通過DLL或通訊方式控製機台實現缺陷檢測

國際化(huà)

支持英文、簡體中文、繁體中文

圖片拚接

支(zhī)持在指定倍率下,將芯片所有(yǒu)部分圖片拚接成一張圖片,並用ID命名

晶圓Map

支持自動/手動生成Map圖,測試過程(chéng)中動態顯示缺陷狀(zhuàng)態

分區檢測

支(zhī)持不同區域缺(quē)陷按照不同指標進行判定


產品特點

產品應(yīng)用

技術參數

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電話:(+86) 027-87001679

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